分别采用⁶⁰Co γ–rays和中子对HEMT器材辐照实验，表明了GaN材料具有良好的抗辐照特性，在1Mrad总剂量伽马射线和10¹⁵cm^–2注量的中子辐照条件下，器材主要参数的退化不到10%，表明GaN材料有优良的抗辐照特性。

Gu Wenping,Zhang Jincheng,Acta Physica Sinica,Vol.58,No.2,2009

Gu Wenping,Hao Yue,Chinese Journal of Semiconductors,Vol.30,No.4,2009