中文 | 英文
首页 实验室概况 仪器设备 科研团队 科学研究 合作交流 最新消息 通知公告
科学研究
科研奖项
授权专利
论文著作
研究成果
1 2 3 4 5 6
西安电子科技大学微电子学院
中科院半导体所
中科院微电子所
北京大学微电子院
清华大学信息科学技术学院
中科院上海微系统与信息所
西安中为光电科技公司
当前位置:首页>科学研究>研究成果>正文
MOS器件的热载流子效应
审核人:
MOS器件的热载流子效应

流函数在热载流子向栅注入过程的精确描述。用流函数建立了MOS器件的解析模型,根据所获得的对热载流子注入的精确描述模型和对损伤产生过程的综合物理描述模型完成了器件特性退化量及寿命的物理描述。

Tang Yusheng,Hao Yue, Analytic Models of Drain,Substrate and Gate Current Distribution in the Drain Section of MOSFETs, IEEE Trans. Electron Devices, Vol.48, No.10,2001,pp:2279-2291


关闭窗口

本网站版权*西安电子科技大学宽带隙半导体国家重点实验室 陕ICP备06007346号 电话:029-88202073 电子邮箱:pjma@xidian.edu.cn技术支持:西安聚力

Baidu
map