郝跃

个人信息:Personal Information

教授

性别:男

毕业院校:西安交通大学

学历:博士研究生毕业

学位:博士学位

在职信息:在岗

所在单位:集成电路学部

学科:集成电路系统设计 微电子学与固体电子学

扫描关注

论文成果

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

The characteristics of fluorinated gate dielectric AlGaN/GaN MIS-HEMT

点击次数:

所属单位:微电子学院

发表刊物:IEICE ELECTRONICS EXPRESS

第一作者:Mi, Minhan; He, Yunlong; Hou, Bin; Zhang, Meng; Shi, Zuochen; Ma, Xiaohua; Li, Peixian; Hao, Yue

论文类型:Article

论文编号:SCI WOS:000367808900012

卷号:12

期号:24

ISSN号:1349-2543

是否译文:

发表时间:2015-01-01

收录刊物:SCI

Baidu
map